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Plasma Etch 为什么需要Low Pressure Plasma Etch的开发方向为 low pressure， high density plasma。 为什么需要低压呢？ 1. MFP: pressure 降低->粒子数减少， MFP增加 2. Particle： 低压下，杂质少，工艺control容易 3. Sheath Potential：pressure 降低…
刚刚做完Plasma，回答一下Plasma吧。 做之前，已经查了很多资料，我以为准备要做的是CO2，看了知情书后才知道是Plasma.大概需要做三次。
手稿定稿后，就可以准备投递了，在投递前，我们务必要按照期刊提供的排版模板把我们的手稿贴进去。不过一些期刊的排版模板比较 隐蔽，无法一下子找到。下面我就以ACS旗下的EST和Wiley旗下的AM为例， 手把手教大家如何找到期刊的Manuscript模板。
（3）记忆性B细胞（memory B cell)和浆细胞 (plasma cell)阶段：少数经过亲和力选择和抗体类别转换的免于凋亡的中央细胞，可在Tfh和FDC的协助下分化为记忆B细胞或浆细胞，离开生发中心，参与淋巴循环。 生发中心B细胞分化成熟的整个过程如下图所示：
多频CCP（Multiple-frequence Capacitive Coupled Plasma）可以单独对plasma密度以及离子轰击能量进行控制，高频（一般27MHz~60MHz）电场主要控制plasma密度，低频（800KHZ~2MHz）电场主要控制离子轰击能量，多频CCP也是当前主流CCP刻蚀设备，示意图见 …
KDE Plasma 是很漂亮的，可以选择原生的 Breeze 微风主题，如下图： 图4、选择主题 如果想尝试更多的主题和美化也可以。 KDE Plasma 的程序打开界面，和 Windows 差不多，如下图： 图5、KDE Plasma 的程序选择界面 说实话，在这种界面中找程序，其实没有在 GNOME 中方便。
1.source power主要作用是让chamber产生plasma,并且对产生的plasma加速。 原理：电子在磁场中会受到洛伦兹力的作用，并做螺旋运动，只要plasma（等离子）不碰到chamber壁，plasma (等离子）就会一直加速，毕竟只有等离子速度足够大，才能保证等离子轰击wafer时，才能把 ...
概述 说一下 KDE 使用1年多的感受，功能上基本上压制所有主流的 linux 桌面环境，UI 细节嘛 捞的不谈。 广义的KDE 是由 Plasma 桌面环境 、库、框架 (KDE Frameworks)、和应用（KDE Applications）组成的软件项目。 优点 kde 是一个功能齐全的桌面环境，窗口管理器kwin很强大，特效巨多，plasma shell 有各种官方 ...
我来说说我的看法吧。平铺式和层叠式窗口管理器可以从以下几个方面去进行比较： 资源占用。不论哪种窗口管理器，占用资源都不大，但如果想用得舒心，还要加上面板、守护程序、Dock，加起来占用的内存也达到300M以上了。实际上，普遍认为臃肿的KDE Plasma和Gnome shell，在停用了桌面搜索进程Baloo ...
尝鲜了一下。 说下最直观的感受， wayland 下终于可以开启4k真缩放且没有模糊感了。喜大普奔。以往高分屏+kde+wayland的组合是真的用不了一点。 kde6 总算解决了。（是不是真的完全解决了，还需要更多时间体验，目前刚更新） 然后更新了很多地方对于touch操作的支持，很明显，kde是想往移动端上发力 ...
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